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碳化硅 價(jià)值 超乎想象

  • 2024年11月02日 22:26
  • 來(lái)源:中國(guó)鐵合金網(wǎng)

  • 關(guān)鍵字:碳化硅、SIC、碳化硅微粉、碳化硅應(yīng)用、碳化硅原料、碳化硅生產(chǎn)
[導(dǎo)讀] 碳化硅是一種人工合成的碳化物,分子式為SiC。通常是由二氧化硅和碳在通電后2000℃以上的高溫下形成的。碳化硅理論密度是3.18克每立方厘米,其莫氏硬度僅次于金剛石,在9.2-9.8之間,顯微硬度3300千克每立方毫米,由于它具有高硬度、高耐磨性、高耐腐蝕性及較高的高溫強(qiáng)度等特點(diǎn)...

 

                                                      碳化硅價(jià)值,超乎認(rèn)知

中國(guó)鐵合金網(wǎng)數(shù)據(jù)整理,對(duì)碳化硅產(chǎn)品最新的應(yīng)用領(lǐng)域做了研究,碳化硅材料重要性超乎認(rèn)知。

    一、碳化硅的定義

    碳化硅是一種人工合成的碳化物,分子式為SiC。通常是由二氧化硅和碳在通電后2000℃以上的高溫下形成的。碳化硅理論密度是3.18克每立方厘米,其莫氏硬度僅次于金剛石,在9.2-9.8之間,顯微硬度3300千克每立方毫米,由于它具有高硬度、高耐磨性、高耐腐蝕性及較高的高溫強(qiáng)度等特點(diǎn),被用于各種耐磨、耐蝕和耐高溫的機(jī)械零部件,是一種新型的工程陶瓷新材料。

    二、碳化硅的基本性能

  1、化學(xué)性質(zhì)

  抗氧化性:當(dāng)碳化硅材料在空氣中加熱到1300℃時(shí),在其碳化硅晶體表面開(kāi)始生成二氧化硅保護(hù)層。隨著保護(hù)層的加厚,阻止了內(nèi)部碳化硅繼續(xù)被氧化,這使碳化硅有較好的抗氧化性。當(dāng)溫度達(dá)到1900K(1627℃)以上時(shí),二氧化硅保護(hù)膜開(kāi)始被破壞,碳化硅氧化作用加劇,所以1900K是碳化硅在含氧化劑氣氛下的最高工作溫度。

  耐酸堿性:在耐酸、堿及氧化物的作用方面,由于二氧化硅保護(hù)膜的作用,碳化硅的抗酸能力很強(qiáng),抗堿性稍差。

  2、物理機(jī)械性能

  密度:各種碳化硅晶形的顆粒密度十分接近,一般認(rèn)為是3.20克/毫米3,其碳化硅磨料的自然堆積密度在1.2--1.6克/毫米3之間,其高低取決于粒度號(hào)、粒度組成和顆粒形狀。

  硬度:碳化硅的莫氏硬度為9.2,威氏顯微密硬度為3000--3300公斤/毫米2,努普硬度為2670—2815公斤/毫米,在磨料中高于剛玉而僅次于金剛石、立方氮化硼和碳化硼。

  導(dǎo)熱率:碳化硅制品的導(dǎo)熱率很高,熱膨脹系數(shù)較小,抗熱震性很高,是優(yōu)質(zhì)的耐火材料。

  3、電學(xué)性質(zhì)

  常溫下工業(yè)碳化硅是一種半導(dǎo)體,屬雜質(zhì)導(dǎo)電性。高純度碳化硅隨著溫度的升高電阻率下降,含雜質(zhì)碳化硅根據(jù)其含雜質(zhì)不同,導(dǎo)電性能也不同。碳化硅的另一電性質(zhì)是電致發(fā)光性,現(xiàn)已研制出實(shí)用器件。

  4、其他性質(zhì)

  親水性好,遠(yuǎn)紅外輻射性等。

    三、用途

  1、磨料磨具方面的用途

  主要用于制作砂輪、砂紙、砂帶、油石、磨塊、磨頭、研磨膏及光伏產(chǎn)品中單晶硅、多晶硅和電子行業(yè)的壓電晶體等方面的研磨、拋光等。

  2、化工用途

  可用做煉鋼的脫氧劑和鑄鐵組織的改良劑,可用做制造四氯化硅的原料,是硅樹(shù)脂工業(yè)的主要原料。碳化硅脫氧劑是一種新型的強(qiáng)復(fù)合脫氧劑,取代了傳統(tǒng)的硅粉碳粉進(jìn)行脫氧,和原工藝相比各項(xiàng)理化性能更加穩(wěn)定,脫氧效果好,使脫氧時(shí)間縮短,節(jié)約能源,提高煉鋼效率,提高鋼的質(zhì)量,降低原輔材料消耗,減少環(huán)境污染,改善勞動(dòng)條件,提高電爐的綜合經(jīng)濟(jì)效益都具有重要價(jià)值。

  3、用于耐磨、耐火和耐腐蝕材料

  利用碳化硅具有耐腐蝕、耐高溫、強(qiáng)度大、導(dǎo)熱性能良好、抗沖擊等特性,碳化硅一方面可用于各種冶煉爐襯、高溫爐窯構(gòu)件、碳化硅板、襯板、支撐件、匣缽、碳化硅坩堝等。

  另一方面可用于有色金屬冶煉工業(yè)的高溫間接加熱材料,如豎罐蒸餾爐、精餾爐塔盤(pán)、鋁電解槽、銅熔化爐內(nèi)襯、鋅粉爐用弧型板、熱電偶保護(hù)管等;用于制作耐磨、耐蝕、耐高溫等高級(jí)碳化硅陶瓷材料;還可以制做火箭噴管、燃?xì)廨啓C(jī)葉片等。此外,碳化硅也是高速公路、航空飛機(jī)跑道等的理想材料之一。

   4. 碳化硅生產(chǎn):  天然的碳化硅很少,工業(yè)上使用的為人工合成原料,俗稱金剛砂,是一種典型的共價(jià)鍵結(jié)合的化合物。碳化硅耐火材料領(lǐng)域中最常用的非氧化物耐火原料之一。

(1)碳化硅的性質(zhì)

碳化硅主要有兩種結(jié)晶形態(tài):b-SiC和a-SiC。b-SiC為面心立方閃鋅礦型結(jié)構(gòu),晶格常數(shù)a=0.4359nm。a-SiC是SiC的高溫型結(jié)構(gòu),屬六方晶系,它存在著許多變體。

碳化硅的折射率非常高,在普通光線下為2.6767~2.6480.各種晶型的碳化硅的密度接近,a-SiC一般為3.217g/cm3,b-SiC為3.215g/cm3.純碳化硅是無(wú)色透明的,工業(yè)SiC由于含有游離Fe、Si、C等雜質(zhì)而成淺綠色或黑色。綠碳化硅黑碳化硅的硬度在常溫和高溫下基本相同。SiC熱膨脹系數(shù)不大,在25~1400℃平均熱膨脹系數(shù)為4.5×10-6/℃。碳化硅具有很高的熱導(dǎo)率,500℃時(shí)為64.4W/(m·K)。常溫下SiC是一種半導(dǎo)體。碳化硅的基本性質(zhì)列于下表。

 

性質(zhì)

指標(biāo)

性質(zhì)

指標(biāo)

摩爾質(zhì)量/(g/mol)

顏色

 

密度/(g/cm3)

40.097

純SiC為黃色,添加B、N、Al為棕色

a-SiC  3.217g/cm3

b-SiC  3.215g/cm3

德拜溫度/K

a-SiC  1200

b-SiC  1430

能隙/eV

a-SiC(6H) 2.86

b-SiC   2.60

超導(dǎo)轉(zhuǎn)變溫度/K

5

摩爾熱容/[J/(mol·K)]

a-SiC  27.69

b-SiC  28.63

彈性模量/GPa

293K為475

1773K為441

生成熱(198.15K時(shí))/(kJ/mol)

a-SiC  25.73±0.63

b-SiC  28.03±2.00

彈性模量/GPa

192

熱導(dǎo)率/[W/(m·K)]

a-SiC  40.0

b-SiC  25.5

體積模量/GPa

96.6

線膨脹系數(shù)/(10-6/K)

a-SiC  5.12

b-SiC  3.80

泊松比n

0.142

300K時(shí)的介電常數(shù)

a-SiC(6H)9.66~10.03

b-SiC  9.72

抗彎強(qiáng)度/Mpa

350~600

電阻率/Ω·m

a-SiC  0.0015~103

b-SiC  10-2~106

耐腐蝕性

在室溫下幾乎是惰性

碳化硅具有耐高溫、耐磨、抗沖刷、耐腐蝕和質(zhì)量輕的特點(diǎn)。碳化硅在高溫下的氧化是其損害的主要原因。

(2)碳化硅的合成

碳化硅的冶煉方法  合成碳化硅所用的原料主要是以SiO2為主要成分的脈石英或石英砂與以C為主要成分的石油焦,低檔次的碳化硅可用地灰分的無(wú)煙煤為原料。輔助原料為木屑和食鹽。

碳化硅有黑、綠兩種。冶煉綠碳化硅時(shí)要求硅質(zhì)原料中SiO2含量盡可能高,雜質(zhì)含量盡量低。生產(chǎn)黑碳化硅時(shí),硅質(zhì)原料中的SiO2可稍低些。對(duì)石油焦的要求是固定碳含量盡可能高,灰分含量小于1.2%,揮發(fā)分小于12.0%,石油焦的粒度通常在2mm或1.5mm以下。木屑用于調(diào)整爐料的透氣性能,通常的加入量為3%~5%(體積)。食鹽僅在冶煉綠碳化硅時(shí)使用。

硅質(zhì)原料與石油焦在2000~2500℃的電阻爐內(nèi)通過(guò)以下反應(yīng)生成碳化硅

SiO2+3C→SiC+2CO↑-526.09Kj

CO通過(guò)爐料排出。加入食鹽可與Fe、Al等雜質(zhì)生成氯化物而揮發(fā)掉。木屑使物料形成多孔燒結(jié)體,便于CO氣體排出。

      碳化硅形成的特點(diǎn)是不通過(guò)液相,其過(guò)程如下:約從1700℃開(kāi)始,硅質(zhì)原料由砂粒變?yōu)槿垠w,進(jìn)而變?yōu)檎羝ò谉煟;SiO2熔體和蒸汽鉆進(jìn)碳質(zhì)材料的氣孔,滲入碳的顆粒,發(fā)生生成Sic的反應(yīng);溫度升高至1700~1900℃時(shí),生成b-SiC;溫度進(jìn)一步升高至1900~2000℃時(shí),細(xì)小的b-SiC轉(zhuǎn)變?yōu)閍-SiC,a-SiC晶粒逐漸長(zhǎng)大和密實(shí);爐溫再升至2500℃左右,SiC開(kāi)始分解變?yōu)楣枵羝褪?/span>

       大規(guī)模生產(chǎn)碳化硅所用的方法有艾奇遜法和 ESK法。

艾奇遜法  傳統(tǒng)的艾奇遜法電阻爐的外形像一個(gè)長(zhǎng)方形的槽子,它是有耐火磚砌成的爐床。兩組電極穿過(guò)爐墻深入爐床之中,專用的石墨粉爐芯體配置在電極之間,提供一條導(dǎo)電通道,通電時(shí)下產(chǎn)生很大的熱量。爐芯體周圍裝盛有硅質(zhì)原料、石油焦和木屑等組成的原料,外部為保溫料。

熔煉時(shí),電阻爐通電,爐芯體溫度上升,達(dá)到2600℃左右,通過(guò)爐芯體表面?zhèn)鳠峤o周圍的混合料,使之發(fā)生反應(yīng)生成碳化硅,并逸出CO氣體。一氧化碳在爐表面燃燒生成二氧化碳,形成一個(gè)柔和、起伏的藍(lán)色至黃色火焰氈被,一小部分為燃燒的一氧化碳進(jìn)入空氣。待反應(yīng)完全并冷卻后,即可拆除爐墻,將爐料分層分級(jí)揀選,經(jīng)破碎后獲得所需粒度,通過(guò)水洗或酸堿洗、磁選等除去雜質(zhì),提高純度,再經(jīng)干燥、篩選即得成品。

艾奇遜法設(shè)備簡(jiǎn)單、投資少,廣泛為石階上冶煉SiC的工廠所采用。但該法的主要缺點(diǎn)在于無(wú)法避免粉塵和廢氣造成的污染,冶煉過(guò)程排出的廢氣無(wú)法收集和再利用,無(wú)法減輕取料和分級(jí)時(shí)的繁重體力勞動(dòng),同時(shí)爐子的長(zhǎng)度也不夠,通常僅幾米至幾十米長(zhǎng),生產(chǎn)經(jīng)濟(jì)性不高。

     ESK法  1973年,德國(guó)ESK公司對(duì)艾奇遜法進(jìn)行了改進(jìn),發(fā)展了ESK法。Esk法的大型SiC冶煉爐建立在戶外,沒(méi)有端墻和側(cè)墻,直線性或U型電極位于爐子底部,爐長(zhǎng)達(dá)60m,用聚乙烯袋子進(jìn)行密封以回收爐內(nèi)逸出的氣體,提取硫后將其通過(guò)管道小型火電廠發(fā)電。該爐可采用成本低、活性高、易反應(yīng)的高硫分石油焦或焦炭作為原料,將原料硫含量由原來(lái)的1.5%提高到5.0%。

碳化硅粉末的合成方法  合成碳化硅粉末的方法主要有固相法、液相法和氣相法三種。

固相法是通過(guò)二氧化硅和碳發(fā)生碳熱還原反應(yīng)或硅粉和炭黑細(xì)粉直接在惰性氣氛中發(fā)生反應(yīng)而制得碳化硅細(xì)粉?梢酝ㄟ^(guò)機(jī)械法將艾奇遜法或ESK法冶煉的碳化硅加工成SiC細(xì)粉。目前該方法制得的細(xì)粉表面積1~15m2/g,氧化物含量1.0%左右,金屬雜質(zhì)含量1400~2800ppm(1ppm=10-6)。其細(xì)度和成分取決于粉碎、酸洗等后續(xù)處理工藝和手段。碳化硅粉末也可以由豎爐或高溫回轉(zhuǎn)窯連續(xù)化生產(chǎn),可獲得高質(zhì)量的b-SiC粉體。SiO2細(xì)粉與碳粉混合料在豎爐的惰性氣氛中,在低于2000℃的溫度下發(fā)生熱還原反應(yīng),合成b-SiC粉體。所獲得的SiC的粒度為微米級(jí)。但往往含有非反應(yīng)的SiO2和C,需進(jìn)行后續(xù)的酸洗和脫碳處理。利用高溫回轉(zhuǎn)窯也可生產(chǎn)出高質(zhì)量的SiC細(xì)粉。

液相反應(yīng)法可制備高純度、納米級(jí)的SiC微粉,而且產(chǎn)品均勻性好,是一種具有良好發(fā)展前景的方法。液相反應(yīng)法制備SiC微粉主要分為溶膠-凝膠法和聚合物熱分解法等。溶膠-凝膠法制備SiC微粉的核心是通過(guò)溶膠-凝膠反應(yīng)過(guò)程,形成Si和C在分子水平上均勻分布的混合物或聚合物固體,升溫過(guò)程中,首先形成SiO2和C的均勻混合物,然后在1400~1600℃溫度下發(fā)生碳熱還原反應(yīng)生成SiC。

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